ऑप्टिकल नमूना विश्लेषण के लिए स्मूथ फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज सब्सट्रेट शंक्वाकार गुहा

उत्पाद विवरण
सामग्री उच्च शुद्धता फ़्यूज्ड सिलिका (SiO2 > 99.99%) आधार आयाम 2मिमी x 2मिमी
गुहा प्रकार केंद्र शंक्वाकार पतला गड्ढा अधिकतम परिचालन तापमान 1100°C
रासायनिक प्रतिरोध एचएफ, मजबूत एसिड और क्षार, कार्बनिक सॉल्वैंट्स थर्मल विस्तार सीटीई 5.5 x 10^-7 /डिग्री सेल्सियस (कम)
सतही समापन सटीक मशीनीकृत, चिकना और चिप-मुक्त पवित्रता कोई धातु आयन वर्षा नहीं
आवेदन ऑप्टिकल माइक्रो सैंपल होल्डर, सेमीकंडक्टर पोजिशनिंग बेस, माइक्रो रिएजेंट सेल
प्रमुखता देना

चिकनी फ्यूज्ड क्वार्ट्ज सब्सट्रेट

,

शंकुयुक्त गुहा के साथ पिघला हुआ क्वार्ट्ज सब्सट्रेट

,

ऑप्टिकल नमूना विश्लेषण फ्यूज्ड क्वार्ट्ज सब्सट्रेट

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उत्पाद अवलोकन

शंक्वाकार गुहा के साथ क्वार्ट्ज सब्सट्रेट(केंद्रीय पतला गड्ढे के साथ आधार 2 मिमी x 2 मिमी) एक उच्च परिशुद्धता ऑप्टिकल-ग्रेड क्वार्ट्ज घटक है जिसे सूक्ष्म-नमूना स्थिति, ऑप्टिकल परीक्षण और अर्धचालक प्रयोग के लिए डिज़ाइन किया गया है। चिकनी, चिप-मुक्त शंकु अवकाश के साथ उच्च शुद्धता वाले फ़्यूज्ड सिलिका (SiO2> 99.99%) से सटीक मशीनीकृत, यह 1100 डिग्री सेल्सियस तक असाधारण थर्मल स्थिरता, एचएफ और आक्रामक अभिकर्मकों के लिए उत्कृष्ट रासायनिक प्रतिरोध और शून्य आयन लीचिंग प्रदान करता है - जो इसे सबसे अधिक मांग वाले सूक्ष्म-स्केल ऑप्टिकल और अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए आदर्श मंच बनाता है।

प्रमुख विशेषताऐं

  • परिशुद्ध शंक्वाकार गुहा:सुरक्षित सूक्ष्म-नमूना प्लेसमेंट और स्थिति के लिए चिकनी, चिप-मुक्त फिनिश के साथ केंद्र पतला गड्ढा
  • 1100°C उच्च तापमान प्रतिरोध:विरूपण के बिना अत्यधिक तापीय परिस्थितियों में आयामी स्थिरता और सतह की गुणवत्ता बनाए रखता है
  • एचएफ और मजबूत रासायनिक प्रतिरोध:हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड, सांद्र एसिड, मजबूत क्षार और कार्बनिक सॉल्वैंट्स से अप्रभावित
  • कम तापीय विस्तार:सीटीई 5.5 x 10^-7/डिग्री सेल्सियस विस्तृत तापमान रेंज में स्थिर आयाम और गुहा ज्यामिति सुनिश्चित करता है
  • उच्च शुद्धता एवं शून्य आयन लीचिंग:SiO2 > 99.99% बिना धातु आयन अवक्षेपण के, नमूना संदूषण को रोकता है
  • परिशुद्धता मशीनिंग:दोहराए जाने योग्य ऑप्टिकल संरेखण के लिए सटीक आयामी सहनशीलता के साथ बारीक पॉलिश वाली सतह

अनुप्रयोग

उद्योगआवेदन
ऑप्टिकल नमूना परीक्षणप्रकाश संचरण का पता लगाने और स्पेक्ट्रोस्कोपिक विश्लेषण को सक्षम करने वाले पारदर्शी आधार के साथ सूक्ष्म कणों और पाउडर नमूनों के लिए फिक्स्ड-पॉइंट धारक
सेमीकंडक्टर प्रयोगपरीक्षण के दौरान गति को सीमित करने वाली परिशुद्धता के साथ सूक्ष्म घटकों के लिए स्थिति निर्धारण और संरेखण आधार
सूक्ष्म रासायनिक परीक्षणसूक्ष्म मात्रा रासायनिक प्रतिक्रियाओं और माइक्रोस्कोप के तहत विश्लेषण के लिए शंक्वाकार अवकाश के साथ नैनो-लीटर अभिकर्मक सेल

प्रतिस्पर्धात्मक लाभ

बनाम प्लास्टिक/पॉलिमर सब्सट्रेट:प्लास्टिक कार्बनिक विलायकों में फूल जाता है और ख़राब हो जाता है और उच्च तापमान का सामना नहीं कर पाता है; यह क्वार्ट्ज सब्सट्रेट सभी सॉल्वैंट्स और एसिड का प्रतिरोध करता है, 1100 डिग्री सेल्सियस का सामना करता है, और इसे बार-बार साफ किया जा सकता है और बिना किसी गिरावट के पुन: उपयोग किया जा सकता है।

बनाम बोरोसिलिकेट ग्लास सब्सट्रेट:बोरोसिलिकेट ग्लास 500 डिग्री सेल्सियस से ऊपर नरम हो जाता है और एचएफ द्वारा हमला किया जाता है; क्वार्ट्ज सब्सट्रेट 1100 डिग्री सेल्सियस पर अखंडता बनाए रखता है और हाइड्रोफ्लोरिक एसिड और सभी संक्षारक मीडिया के लिए पूरी तरह से प्रतिरोधी है

विशेष विवरण

पैरामीटरकीमत
सामग्रीउच्च शुद्धता फ़्यूज्ड सिलिका (SiO2 > 99.99%)
आधार आयाम2मिमी x 2मिमी
गुहा प्रकारकेंद्र शंक्वाकार पतला गड्ढा
अधिकतम ऑपरेटिंग तापमान1100°C
रासायनिक प्रतिरोधएचएफ, मजबूत एसिड और क्षार, कार्बनिक सॉल्वैंट्स
थर्मल विस्तारसीटीई 5.5 x 10^-7 /डिग्री सेल्सियस (कम)
सतही समापनसटीक मशीनीकृत, चिकना और चिप-मुक्त
पवित्रताकोई धातु आयन वर्षा नहीं
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