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ऑप्टिकल क्रिस्टल
65x2.9x2 मिमी नीलम सब्सट्रेट प्रिसिजन पॉलिश लेजर उपकरण कैरियर बेस
| आयाम: | 65 x 2.9 x 2 मिमी |
|---|---|
| सामग्री: | एकल क्रिस्टल नीलमणि (एल्यूमिना) |
| सतही समापन: | सटीक जमीन और पॉलिश |
ऑप्टिकल फाइबर क्वार्ट्ज सब्सट्रेट 4x3x7mm प्रेसिजन स्लॉट पोजिशनिंग फाइबर कपलिंग बेस
| समग्र आयाम: | 4 x 3 x 7 मिमी |
|---|---|
| सामग्री: | कॉम्पैक्ट, फ्लैट क्वार्ट्ज ग्लास |
| स्लॉट/पोजिशनिंग होल: | उच्च परिशुद्धता मशीनिंग |
चौकोर ग्लास कवर शील्ड क्वार्ट्ज उपकरण 26.7x25.4x23 मिमी इंटीग्रल थर्मोफोर्मेड सुरक्षात्मक
| बाहरी आयाम: | 26.7 x 25.4 x 23 मिमी |
|---|---|
| सामग्री: | 3.3 बोरोसिलिकेट या फ़्यूज्ड सिलिका |
| बनाने की विधि: | इंटीग्रल थर्मोफॉर्मिंग, सीमलेस |
90x18x3 मिमी सटीक ग्रूव क्वार्ट्ज सब्सट्रेट उच्च शुद्धता ऑप्टिकल प्लेट
| समग्र आयाम: | 90 x 18 x 3 मिमी |
|---|---|
| नाली: | परिशुद्धता नाली, समान गहराई |
| सतही समापन: | दो तरफा खरोंच-मुक्त पॉलिश |
150मिमी आयताकार फ्यूज्ड सिलिका सब्सट्रेट 5x3.2मिमी ऑप्टिकल सैंपल कैरियर बेस
| समग्र आयाम: | 150 x 5 x 3.2 मिमी |
|---|---|
| सामग्री: | उच्च शुद्धता वाला फ़्यूज्ड सिलिका |
| सतही समापन: | सटीक जमीन और पॉलिश |
18+1 आयताकार खांचे वाला फ्यूज्ड क्वार्ट्ज सब्सट्रेट 120x5x3.5mm ऑप्टिकल कंपोनेंट कैरियर
| समग्र आयाम: | 120 x 5 x 3.5 मिमी |
|---|---|
| नाली विन्यास: | 18 मानक खांचे + 1 अतिरिक्त खांचे |
| नाली की चौड़ाई: | 1.8 मिमी |
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शंक्वाकार क्वार्ट्ज ट्यूब अनुकूलित आकार और आयाम
| सामग्री: | उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज |
|---|---|
| आकार: | आकार और आयाम अनुकूलित |
| आवेदन: | अर्धचालक, चिकित्सा, उद्योग, सौर |
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फ्यूज्ड सिलिका ग्लास रिंग अपारदर्शी सफेद संक्षारण प्रतिरोधी OD 10-500mm
| सामग्री: | फ्युज़्ड सिलिका |
|---|---|
| सिलिकॉन डाइऑक्साइड घटक: | SiO2> 99.99% |
| काम का तापमान: | 1200 ℃ |
कोवर मिश्र धातु क्वार्ट्ज उपकरण ग्लास और धातु की वेल्डिंग
| प्रोडक्ट का नाम: | कोवर मिश्र धातु क्वार्ट्ज उपकरण ग्लास और धातु की वेल्डिंग |
|---|---|
| सामग्री: | उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज ग्लास |
| रंग: | साफ़ पारदर्शी |
उच्च तापमान कस्टम आकार के साथ अनुकूलन योग्य उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज बब्बलर
| सामग्री: | उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज |
|---|---|
| तापमान की रेंज: | 200℃~1100℃ |
| आवेदन: | गैस आर्द्रीकरण, इलेक्ट्रोलाइट डीऑक्सीजनेशन, प्रतिक्रिया वातन |